四氟化碳（CF4）是目前微電子工業中用量最大的等離子體蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應用。由于它的化學穩定性極強，CF4還可用于金屬冶煉和塑料行業等。 當今超大規模集成電路所用電子氣體的特點和發展趨勢是超純、超凈、多品種、多規模，各國為推動本國微電子工業的發展，越來越重視發展特種電子氣體的生產技術。就目前而言，CF4以其相對低廉的價格長期占據著蝕刻氣體的市場，因此具有廣闊的發展潛力。